中微于2010年12月向上海市第一中级人民法院提起诉讼，主张科林研发侵犯中微的商业秘密。具体而言，中微主张科林研发非法获取中微机密的技术文件和机密的反应腔内部照片。中微还主张科林研发安排其技术专家在证据保全时不恰当地察看和测量中微刻蚀机的内部结构，然后使用获取的信息于2009年向台湾智慧财产法院起诉中微专利侵权，试图影响中微产品进入台湾市场，但最终科林研发败诉。

在法院3月27日作出的判决中，法院命令科林研发销毁其非法持有的照片，禁止科林研发和其员工披露、使用或允许他人使用中微的技术秘密，并要求科林研发赔偿中微法律费用90万元人民币。

中微董事长兼首席执行官尹志尧博士评述道：“作为一家向世界著名芯片生产厂商提供高科技制造设备的供应商，中微极其尊重客户和竞争对手的知识产权，其中包括被视为皇冠上的钻石的商业资产——商业秘密。我们期待中微的商业秘密也能获得同样的尊重。中微坚决不能容忍来自于任何竞争对手的侵权或其它不正当的商业竞争行为。”

中微公司致力于为全球集成电路和LED芯片制造商提供领先的加工设备和工艺技术解决方案。中微通过创新驱动自主研发的等离子体刻蚀设备和硅通孔刻蚀设备已在国际主要芯片制造和封测厂商的生产线上广泛应用于45纳米到1X纳米及更先进的加工工艺和最先进的封装工艺。目前，正在亚洲地区30多条国际领先的生产线上运行的中微刻蚀反应台已超过600个。中微开发的用于LED和功率器件外延片大规模生产的MOCVD设备也已经在国内多条生产线上正常运行。

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